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2 / サファイア、Sicの基質の4インチ ガリウム窒化物のAlNの型板のウエファー

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2 / サファイア、Sicの基質の4インチ ガリウム窒化物のAlNの型板のウエファー

中国 2 / サファイア、Sicの基質の4インチ ガリウム窒化物のAlNの型板のウエファー サプライヤー
2 / サファイア、Sicの基質の4インチ ガリウム窒化物のAlNの型板のウエファー サプライヤー 2 / サファイア、Sicの基質の4インチ ガリウム窒化物のAlNの型板のウエファー サプライヤー

大画像 :  2 / サファイア、Sicの基質の4インチ ガリウム窒化物のAlNの型板のウエファー

商品の詳細:

起源の場所: 中国
ブランド名: zmkj
モデル番号: 4inch AlN

お支払配送条件:

最小注文数量: 2PCの
価格: by case
パッケージの詳細: 100等級のクリーン ルームの単一のウエファーの箱
受渡し時間: 2 - 4週間
支払条件: L / C、T / T
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詳細製品概要
材料: ウエファーのAlN 方法: HVPE
サイズ: 4inch 厚さ: 430+15umか650um
産業: 、レーザー装置導かれる、LD探知器、 表面に: 磨かれるダブルまたはシングルの側面

サファイアの2inch、4inchガリウム窒化物のAlNの型板のウエファーかsicの基質、HVPEガリウム窒化物のウエファー、AlNの型板 

  1. III窒化物(GaN、AlNのイン)

禁止された帯域幅(発光および吸収)カバー紫外線、可視ライトおよび赤外線。

プロダクト  窒化アルミニウム(AlN)のフィルム
製品の説明: AllN Epitxialはsaphhireの水素化合物の蒸気段階のエピタクシーの(HVPE)モデル方法を提案しました。窒化アルミニウムのフィルムはまた窒化アルミニウムの単結晶の基質を取り替える費用効果が大きい方法です。誠意をこめて枝水晶の歓迎あなたの照会!
技術的な変数:
サイズ 50mmの± 2mm
サファイアの基質のオリエンテーション c軸線(0001)の± 1.0deg
マクロ欠陥密度 <5cm-2>
利用できる表面積 90%
前に表面処理 Epi準備ができている育てられる
容器 単一の破片

 

指定:

10x10x0.5mm、10x10x1mm、dia2 「x1mm;

顧客需要の特別なオリエンテーションおよびサイズに従ってカスタマイズすることができます。

標準の包装: 1000クリーン ルーム、100きれいな袋か単一箱の包装
 

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GaNはLED表示、高エネルギー検出およびイメージ投射のような多くの地域で使用することができます
レーザーの投射の表示、力装置、等。
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指定:

  4" AlNの型板 また2-4inchサイズのok
項目 AlN-T
次元 Ф 100±0.3mm
基質 サファイア、SiC、GaN
厚さ 1000nm+/- 10% (AlNの厚さ)
オリエンテーション C軸線(0001)の± 1°
伝導のタイプ 半絶縁
転位密度 XRD FWHMの(0002) < 200="" arcsec="">
XRD FWHMの(10-12) < 1000="" arcsec="">
使用可能な表面積 > 80%
ポーランド語 標準:SSP
選択:DSP
パッケージ 、窒素の大気の下で25pcsまたは単一のウエファーの容器のカセットのクラス100のクリーン ルームの環境で包まれる。または単一カセット。

他はまたaslike 5x5mm、10x10mm、2inch、3inchをことができますカスタマイズする大きさで分類します。 

 

私達のチームについて

    ZMKJは中国最もよい市である上海市に置きます、

そして私達の工場は2014年にウーシー都市で、半導体材料で創設されます、

10yearsのためのよい経験をほとんど持って下さい。
   私達は電子工学、光学、光電子工学および他の多くの分野で広く利用されたウエファー、基質およびcustiomized光学ガラスparts.componentsにいろいろな材料を処理することを専門にします。私達はまた多くの国内を密接に使用して、海外大学、研究所および会社はR & Dのプロジェクトに、カスタマイズされた製品とサービスを提供します。
     それは私達のよいreputatiaonsによって私達のすべての顧客との協同のよい関係の維持へ私達の視野です。


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