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> プロダクト > ガリウム窒化物のウエファー >
4'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層
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4'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層

起源の場所 中国
ブランド名 ZMSH
証明 ROHS
モデル番号 シリコン上のAINテンプレート
プロダクト細部
材料:
シリコン上のAINテンプレート
オリエンテーション:
111
磨き:
SSP,DSP
直径:
4インチ
厚さ:
100nm,200nm
適用する:
半導体基板
伝導性のタイプ:
nのタイプ
抵抗性:
1〜100ohm.cm
マクロ欠陥密度:
<10/cm^2
ハイライト: 

半導体ウエフルのAIN

,

シリコン基板に関するAIN

,

シリコン・ウェーバー上のアルミニウムナイトリド

製品の説明

4'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層

 

記述:

シリコン・ウェーバーのアルミニウムナイトリッドは ユニークな特性を持つ 新しいタイプの半導体材料ですアルミナイトリドセラミックは低ダイレクトレクトル常数と優れた機械特性を持っています. 毒性のないもので,シリコンに似た線形膨張係数を有する. さらに,熱伝導性が低い.この 性質 の 組み合わせ に よっ て,アルミ 酸塩 は,多くの 電子 製品 に 使える 理想 的 な 材料 に なり ますアルミニウムナイトリドの薄膜は半導体材料の一種である.これはシリコンウェーファーに高度な導電性を持つアルミニウムナイトリドであり,高温に耐える.また,電磁石 に 耐える もの で,高沸点 の もの です.アルミニウムナイトライドは,シリコン・ウェーファーに適正な焼却なしで加工することが推奨されない.

4'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層 04'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層 1

 

仕様:

 

  • 使用面積: 90%
  • 名義ALN厚さ: 200nm ± 5%,片側がコーティングされ,AlNフィルムはドープされていない
  • 前面: 成長したまま
  • 背面:受領されたシリコン
  • AlN向き:C平面 (001)
  • マクロデフェクト密度: <5/cm^2
  • ウェーファーベース:シリコン [111] Nタイプ,2"×0.5mm,抵抗力: <5オム・センチメートル,片側が磨き

適用:

  • シリコンウエフルのアルミニウムナイトライドは,多くの用途のための理想的な基板材料である.それはシリコンウエフルのような熱膨張特性を持ち,化学的に惰性である.高熱伝導性 と 低抵抗性 を 備えた 材料 で,多くの 電子 製品 に 使える電子機器に最適です 環境に優しいものです
  • シリコンと比較して,シリコン上のアルミニウムナイトライドは優れた電気伝導性および低温膨張系数を有する.これらの特性により,優れた半導体材料である.電子機器以外にも環境にも安全です
  • シリコンウエフルのアルミニウムナイトリードは,電子機器のアプリケーションでベリリウムオキシドに優れた代替物である.低コストと無毒性により,シリコンウエフルの理想的な代替物となる.この半導体材料は電子アプリケーションにも使用できます.
  • この素材は非常に耐久性があり 様々な電子用途に適しています低熱伝導性 と 高い 電気 隔熱 性 が,電子 器具 に ぴったり な 材料 に なり ますシリコンとは異なり,無毒で製造が容易である.電子用途に加えて,低介電常数も有する.高速レーザーでもシリコンの優れた代替物である.

 

他の製品:

ガン・ワッフル:

4'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層 24'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層 3

 

会社紹介

上海市は中国の最高の都市で,私たちの工場は2014年にウキシ市に設立されました.私たちは,様々な材料を,ウエファー,基板,および電子,光学,光電子,および他の多くの分野で広く使用されている光学ガラス部品に加工することに特化した.国内外の多くの大学と緊密に協力しています研究機関や企業は,研究開発プロジェクトのためにカスタマイズされた製品とサービスを提供します. 良質な評判によって すべての顧客との良好な協力関係を維持することです.
4'6' AIN シリコン基板 SSP DSP 半導体ホイール 100nm 200nm 層 4
 

 

 

 

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