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熱伝導性の陶磁器の基質の窒化アルミニウムのAlNの高い陶磁器の基質

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熱伝導性の陶磁器の基質の窒化アルミニウムのAlNの高い陶磁器の基質

High Thermal Conductivity Ceramic Substrate Aluminum Nitride AlN Ceramic Substrate
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大画像 :  熱伝導性の陶磁器の基質の窒化アルミニウムのAlNの高い陶磁器の基質

商品の詳細:
起源の場所: 中国
ブランド名: zmkj
モデル番号: ALN
お支払配送条件:
最小注文数量: 25個
価格: by case
パッケージの詳細: 25pcsカセット箱
受渡し時間: 10短い期間
詳細製品概要
材料: AlNの陶磁器の基質 適用: 半導体の処理のための陶磁器の版
色: 白か赤または青 サイズ: 3-8inch
純度: 98%
ハイライト:

陶磁器炭化ケイ素

,

アルミナの陶磁器の基質

窒化アルミニウムのAlNの陶磁器の基質、高い熱伝導性

陶磁器0.5mm AlN 6inch陶磁器の基質

AlNは導入します

陶磁器窒化アルミニウム(AlN)に高い熱伝導性(陶磁器アルミナとして5-10回)があります、

低い比誘電率および誘電正接、よい絶縁材および優秀な機械特性、無毒で、高い熱抵抗、化学抵抗および線形拡張係数はSiと類似しています。

陶磁器材料の新しい世代として、陶磁器AlNは注意をますます引き付けます。導くこと

国内企業のレベルは、会社のAlNの私達の陶磁器の基質の質国際的な高度のレベルに達します。それはコミュニケーション部品、導かれる高い発電で広く利用されていましたり電子デバイスおよび他の分野に動力を与えます。

私達の協力の工場は適用しましたアルミナの基質の製造業のための鋳造テープ プロセスをできます。よい熱伝導性を使うと、絶縁材、熱衝撃の抵抗、健康な抵抗および制酸剤およびアルカリ等、私達の陶磁器の基質は厚フィルムの雑種の集積回路(HIC)、LEDの陶磁器の放射の基盤、力モジュール、半導体デバイスおよび他の分野で使用することができます。

AlN特徴及びAdvantagement

- 製品名:

窒化アルミニウム/AIN陶磁器の基質

- 材料: 窒化アルミニウム/AlN
- 典型的な特徴:

1. 非常に高く熱伝導性

2. よい電気絶縁材

3. 耐食性

4. よい平坦

- 典型的な適用:

1. 力の電子デバイス

2. 高い明るさLED

3. 通信機器

物質的な特性
特性/材料 96%のアルミナ AlN
密度(g/cm3) 3.6 3.3
白い 灰色
絶縁耐力(KV/mm) ≥17 ≥17
比誘電率(1MHz) 10.6 8.9
容積抵抗(@20°C、Ω.cm) ≥1014 ≥1014
熱伝導性(@20°C、W/mk) ≥24 ≥175
熱拡張係数(10-6/°C) 6.5-8.0 4.8
Flexural強さ(MPa) ≥350 ≥450

普通サイズ
厚さ(mm) lengthxの幅(mm)
0.385

2 ″ * 2 ″

50.8mm*50.8mm

3 ″ * 3 ″

76.2mm*76.2mm

4 ″ * 4 ″

101.6mm*101.6mm

4.5 ″ * 4.5 ″

114.3mm*114.3mm

0.5
0.635
1.0
直径(mm)
1.0

Φ16

Φ19

Φ20

Φ26

Φ30

Φ35

Φ40

Φ45

Φ50

Φ52

Φ60 Φ75 Φ80
1.2
1.5
2.0
2.5
直径(mm) 厚さ(mm)

2"

(50.8mm)

16mmの

3"

(76.2mm)

OF22mm

4"

(100mm)

30mmの

5"

(125mm)

42.5mmの

6"

(150mm)

47.5mmの

0.385
0.5
0.65
1.0

磨くサービス

AlNの私達の基質は輸入した高度機械によって(単一および二重光沢)磨くことができます

外国から。陶磁器の基質の表面の粗さは磨かれているの後で多孔性なしで1nmに達することができます。

それは小さいspecの高精度の装置塗布のために完全に適して、密度およびよい安定性をワイヤーで縛ります。

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パッケージ及び配達

熱伝導性の陶磁器の基質の窒化アルミニウムのAlNの高い陶磁器の基質 2

連絡先の詳細
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

コンタクトパーソン: Mr. Wang

電話番号: +8615801942596

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