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Nタイプ/Un-DopedタイプGaAsのウエファーのGaSb 2inch InAsのウエファー
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Nタイプ/Un-DopedタイプGaAsのウエファーのGaSb 2inch InAsのウエファー

起源の場所 中国
ブランド名 ZMSH
証明 CE
モデル番号 N type/Pタイプ
プロダクト細部
材料:
モノクリスタルInAs
厚さ:
500um ±25um
タイプ:
Sn/S/Zn添加される非doepd/
オリエンテーション:
100/111
成長方法:
LEC
適用:
赤外線冷光装置
企業:
半導体の基質
表面:
DSP/SSP
ハイライト: 

2inch InAsのウエファー

,

GaSbのNタイプのウエファー

,

Un-DopedタイプGaAsのウエファー

製品の説明

 

 

32inch InAsのウエファーのNタイプのun-dopedタイプGaAsのウエファーのGaSbのウエファー

 

適用

 

基質材料としてInAsの単結晶がInAsSb/InAsPSb、InNAsSbおよび他のヘテロ接合材料を育てるのに使用することができ生産の波長は2~14のμ Mの赤外線発光装置である。InAsの単結晶の基質はまたAlGaSbの超格子の構造材料のエピタキシアル成長、および中間赤外線量の滝のレーザーの生産に使用することができる。これらの赤外線装置にガスの検出および低損失の光ファイバーコミュニケーションの分野でよい適用見通しがある。さらに、InAsの単結晶に高い電子移動度があり、ホール装置のための理想的な材料である。

 

 

製品特性

 

●水晶は成長した技術および安定した電気性能のCzochralski液体密封された(LEC)の技術によって育つ


●X線のオリエンテーションの器械は精密なオリエンテーションのために使用され、水晶オリエンテーションの偏差は± 0.5のºだけである


●ウエファーは化学機械磨く(CMP)技術によって磨かれ、表面の粗さは0.5nmよりより少しである


●満たしなさい「箱」からの使用条件をの


●特別な指定プロダクトはユーザーの要求に従って処理することができる

 

ウエファーの指定の細部

                                                       電気変数
添加物  タイプ

キャリア集中

(cm3)

移動性

(cm2V-1s-1)

転位密度

(cm-2)

Un-doped nタイプ <5x1016 ≥2x104 ≤50000
Sn添加される nタイプ (5-20) x1017 >2000 ≤50000
S添加される nタイプ (3-80) x1017 >2000 ≤50000
Zn添加される Pタイプ (3-80) x1017 60~300 ≤50000
サイズ 2" 3"
直径(mm) 50.5±0.5 76.2±0.5
厚さ(um) 500±25 600±25
オリエンテーション (100)/(111) (100)/(111)
オリエンテーションのtolerane ±0.5º ±0.5º
の長さ(mm) 16±2 22±2
長さ(mm)の2st 8±1 11±1
TTV (um) <10 <10
曲げなさい(um) <10 <10
歪めなさい(um) <15 <15

 

Nタイプ/Un-DopedタイプGaAsのウエファーのGaSb 2inch InAsのウエファー 0Nタイプ/Un-DopedタイプGaAsのウエファーのGaSb 2inch InAsのウエファー 1

 

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ZMSHは、半導体ウエハーの製造者のような、SiC、GaN、III-Vのグループの混合物および等の半導体の基質そしてエピタキシアル ウエファーを提供する。

 

 

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