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サイズ: | 2inch、4inch、6inch、5×5,10×10 | 誘電率: | 9.7 |
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表面の硬度: | HV0.3> 2500 | 密度: | 3.21 g/cm3 |
熱膨張係数: | 4.5 x 10-6/k | 分解電圧: | 5.5 mV/cm |
アプリケーション: | 通信、レーダーシステム | ||
ハイライト: | 4H-SiC substrate MOS grade,5x5 mm SiC substrate,N-type SiC substrate wafer |
2インチ、4インチ、6インチ、8インチ、5×5 mm、10×10 mm、4H-SiC基板、3C-N型MOSグレード
3C-N型炭化ケイ素(3C-SiC)基板は、立方晶構造(3C)に基づいた広帯域半導体材料であり、液相エピタキシー(LPE)または物理的気相輸送(PVT)によって製造されます。2インチから8インチまでの標準サイズをサポートし、カスタムサイズ(例:5×5 mm、10×10 mm)もサポートしています。その主な利点には、高電子移動度(1,100 cm²/V・s)、広帯域ギャップ(3.2 eV)、および高熱伝導率(49 W/m・K)があり、高周波、高温、高出力デバイスアプリケーションに最適です。
1. 電気的性能
2. 熱的および化学的安定性
3. プロセス互換性
1. 5G通信およびRFデバイス
2. 電気自動車(EV)
3. 産業およびエネルギーシステム
4. 航空宇宙および防衛
グレード | ゼロMPD生産グレード(Zグレード) | 標準生産グレード(Pグレード) | ダミーグレード(Dグレード) | ||
直径 | 145.5 mm〜150.0 mm | ||||
厚さ | 350 μm ±25 μm | ||||
ウェーハ配向 | |||||
** マイクロパイプ密度 | 0 cm⁻² | ||||
** 抵抗率 | p型4H/6H-P | ≤0.1 Ω・cm | ≤0.3 Ω・cm | ||
n型3C-N | ≤0.8 mΩ・cm | ≤1 mΩ・cm | |||
プライマリフラット配向 | 4H/6H-P | {1010} ±5.0° | |||
3C-N | {110} ±5.0° | ||||
プライマリフラット長 | 32.5 mm ±2.0 mm | ||||
セカンダリフラット長 | 18.0 mm ±2.0 mm | ||||
セカンダリフラット配向 | シリコン面アップ、プライムフラットから90°CW±5.0° | ||||
エッジ除外 | 3 mm | 6 mm | |||
LTV/TIV/Bow/Warp | ≤2.5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm | ≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm | |||
* 粗さ | 研磨Ra≤1 nm | ||||
CMPRa≤0.2 nm | Ra≤0.5 nm | ||||
高強度光によるエッジクラック | なし | 累積長≤10 mm、単一長≤2 mm | |||
* 高強度光による六角プレート | 累積面積≤0.05% | 累積面積≤0.1% | |||
* 高強度光によるポリタイプ領域 | なし | 累積面積≤3% | |||
目視による炭素含有物 | なし | 累積面積≤0.05% | |||
# 高強度光によるシリコン表面の傷 | なし | 累積長≤1×ウェーハ直径 | |||
高強度光によるエッジチップ | 幅と深さが0.2mm以上のものは許可されていません | 5つ許可、各≤1 mm | |||
高強度によるシリコン表面汚染 | なし | ||||
梱包 | マルチウェーハカセットまたはシングルウェーハコンテナ |
注記:
* 欠陥制限は、エッジ除外領域を除くウェーハ表面全体に適用されます。
* 傷はSi面のみで確認する必要があります。
Q1:2インチ、4インチ、6インチ、8インチ、5×5mm、10×10mmの3C-N型SiC基板の主な用途は何ですか?
A:高電子移動度と熱安定性により、5G RFモジュール、EVパワーシステム、高温産業デバイスで広く使用されています。
Q2:3C-N型SiC基板は、従来の4H-SiCと比較して性能はどのようですか?
A:3C-N型SiCは、低抵抗と優れた高周波性能(最大2.7×10⁷ cm/sの電子速度)を提供し、RFおよび小型パワーエレクトロニクスに最適です。
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コンタクトパーソン: Mr. Wang
電話番号: +8615801942596