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SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD
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> プロダクト > SiCの基質 >
330um厚さ4H-NのタイプSiCの基質の生産の等級Dia50.8mm 2inch
  • 330um厚さ4H-NのタイプSiCの基質の生産の等級Dia50.8mm 2inch
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330um厚さ4H-NのタイプSiCの基質の生産の等級Dia50.8mm 2inch

起源の場所 中国
ブランド名 SICC
証明 CE
モデル番号 4h-n
プロダクト細部
材料:
SICの水晶
タイプ:
4h-n
純度:
99.9995%
抵抗:
0.015~0.028ohm.cm
サイズ:
2-8inch 2inch、3inch、4inch、6inch、8inch
厚さ:
330umまたはカスタマイズされる
MPD:
《2cm-2
適用:
SBDのため、MOS装置
TTV:
《15um
弓:
《25um
ゆがみ:
《45um
ハイライト: 

SBD装置SiCの基質

,

330um厚さSiCの基質

,

生産の等級の炭化ケイ素の基質

製品の説明

2inch dia50.8mm 330μmの厚さ4H-NのタイプSiCの基質の生産の等級

 

2inch炭化ケイ素のウエファー6Hまたは4HのNタイプかSemi-Insulating SiCの基質

4H-Nタイプ/半絶縁SiCの基質2inch 3inch 6inchの炭化ケイ素のウエファー

 

SiCのsubatrateはである何

SiCの基質は優秀な電気および熱特性がある広いbandgap半導体材料である炭化ケイ素(SiC)から成っているウエファーを示す。SiCの基質は強力なトランジスター、ショットキー ダイオード、紫外線フォトディテクターおよびLEDsのようなさまざまな電子および光電子工学装置を、製造するのに使用することができるSiCまたは他の材料のエピタキシアル層の成長のためのプラットホームとして一般的である。

SiCの基質は他の半導体材料に、より高い絶縁破壊電圧、より高い熱伝導性およびより高い最高使用可能温度を含む優秀な特性に、よる強力な、高温電子工学の適用のためのケイ素のような、好まれる。SiC装置はケイ素 ベースの装置より大いに高温ででき、それらを作動、自動車、宇宙航空の、およびエネルギー適用ののような極度な環境の使用のために適したようにする。

 

 

適用

III-Vの窒化物の沈殿

光電子工学装置

強力な装置

高温装置

高周波力装置

指定

等級 生産の等級 研究の等級 模造の等級
直径 50.8 mm +/- 0.38 mm
厚さ

Nタイプの330 um +/- 25 um

Semi-Insulating 250 um +/- 25 um

ウエファーのオリエンテーション

軸線: <0001> +/- 6H-N /4H-N /4H-SI /6H-SIのための0.5 deg

軸線を離れて:4.0 degの方の <11-20> +/-0.5 4H-N /4H-SIのためのdeg

Micropipe密度(MPD) 5 cm-2 15 cm-2 30 cm-2

電気抵抗

(オームcm)

4H-N 0.015~0.028
6H-N 0.02~0.1
4/6H-SI >1E5 (90%) >1E5
集中の添加

Nタイプ:| 1E18/cm3

SIタイプ(V添加される):| 5E18/cm3

第一次平たい箱 {10-10} +/- 5.0 deg
第一次平らな長さ 15.9 mm +/- 1.7 mm
二次平らな長さ 8.0 mm +/- 1.7 mm
二次平らなオリエンテーション 上向きケイ素:主な平たい箱からの90のdeg CW +/- 5.0 deg
端の排除 1つのmm
TTV/弓/ゆがみ 15 um/25um/25um
表面の粗さ 光学ポーランドのRA Cの表面の1 nm
CMPのRA Siの表面の0.5 nm
高輝度ライトによって点検されるひび どれも どれも 1弾の割り当てられる、1つのmm
高輝度light*によって点検される六角形の版 累積区域1% 累積区域1% 累積区域3%
高輝度light*によって点検されるPolytype区域 どれも 累積区域2% 累積区域5%
高輝度ライトによって点検される傷**

1wafer直径への3つの傷

累積長さ

5つの傷から1つのウエファーの直径

累積長さ

8つの傷から1つのウエファーの直径

累積長さ

端の欠けること どれも 3弾の割り当てられる、0.5 mmそれぞれ 5弾の割り当てられる、1つのmmそれぞれ
高輝度ライトによって点検される表面汚染 どれも

 

 

330um厚さ4H-NのタイプSiCの基質の生産の等級Dia50.8mm 2inch 0330um厚さ4H-NのタイプSiCの基質の生産の等級Dia50.8mm 2inch 1

 

 

 

 

 

産業鎖

炭化ケイ素SiCの産業鎖は基質の物質的な準備、エピタキシアル層の成長、装置製造業および下流の適用に分けられる。炭化ケイ素のモノクリスタルは通常物理的な蒸気伝達(PVT方法)によって準備され、それからエピタキシアル シートは化学気相堆積(CVD方法)によって基質で発生し、関連した装置は最終的になされる。基質の製造技術の難しさによるSiC装置の産業鎖では産業鎖の価値は上流の基質リンクに主に集中される。

 

ZMSHの会社は提供する100mmおよび150mm SiCのウエファーを提供する。硬度(SiCは世界の第2最も堅い材料である)および熱および高圧流れの下の安定性によって、この材料は複数の企業で広く利用されている。

 

価格

ZMSHの会社は良質SiCのウエファーおよびSiCの水晶基質のための市場の最もよい価格を6つまでの(6)インチ(直径)提供する。私達の価格の一致の方針の保証対等な指定を含むSiC水晶プロダクトのための最もよい価格。あなたの引用を得る今日接触米国

 

カスタム化

カスタマイズされたSiC水晶プロダクトは顧客の特定の条件および指定に合うために作ることができる。

Epiウエファーはまた要望に応じて顧客用である場合もある。

 

 

FAQ

 

Q:wayofは何をおよび言葉を支払うために出荷して、要したか。

:(1)私達は50% T/Tを先立って受け入れ、配達の前にDHL、Federal Express、EMS等によって50%を残した。

(2)あなた自身の明白な記述があれば、大きい。そうでなかったら、私達はそれらを出荷するのを助けることができる。

貨物は実際の解決に従ってある

 

Q:あなたのMOQは何であるか。

:(1)目録のための、MOQは3pcsである。

(2)カスタマイズされたプロダクトのための、MOQは10pcsである。

 

Q:私は私の必要性に基づいてプロダクトをカスタマイズしてもいいか。

:はい、私達は材料、指定および形のあなたの必要性に基づいてサイズをカスタマイズしてもいい。

 

Q:受渡し時間は何であるか。

:(1)標準的なプロダクトのために

目録のため:配達は順序を置いた5仕事日後ある。

カスタマイズされたプロダクトのため:配達は順序を置いた3週後2またはである。

(2)特別型プロダクトのための、配達は順序を置いた後4週労働日数である。

 

私達にいつでも連絡しなさい

86-1580-1942596
Rm5-616、No.851のDianshanhuの道、Qingpu区域、上海都市、中国
私達にあなたの照会を直接送りなさい