プロダクト細部
起源の場所: 中国
ブランド名: ZMSH
証明: rohs
モデル番号: SiCの粉
支払いと送料の条件
価格: by case
支払条件: T/T
純度:: |
≥99.9999% (6N) |
タイプ:: |
4h-n |
Mohsの硬度:: |
9.5 |
抵抗:: |
0.015 〜0.028Ω |
粒の大きさ:: |
20〜100um |
適用:: |
4h-n sic 結晶の成長のために |
純度:: |
≥99.9999% (6N) |
タイプ:: |
4h-n |
Mohsの硬度:: |
9.5 |
抵抗:: |
0.015 〜0.028Ω |
粒の大きさ:: |
20〜100um |
適用:: |
4h-n sic 結晶の成長のために |
抽象
シリコンカービッド粉末 (SiC) は,第3世代の半導体のコア材料として,高熱伝導性 (490 W/m·K),極端な硬さ (モス9.5) および広い帯域 (3.2 eV) を示しています.主にSiC結晶の成長に使用されます超高純度合成 (≥99.9999%) と精密な粒子のサイズ制御 (50 nm~200 μm),PVTの結晶成長炉とCVDエピタキシアル装置の要件を満たしている..
· 純度:HPSI型SiC粉末の6N級 (99.9999%) の金属不浄化制御
· 水晶形: HPSI SiC粉末で制御可能な4H/6Hポリタイプ
· 粒子の大きさ:高純度半絶縁型SiC粉末のために 50 nm 〜 200 μm (D50分布 ± 5%) を調節できます.
●ドーピング:HPSIグレードのSiC粉末でN型 (窒素) またはP型 (アルミニウム) のドーピングをカスタマイズできます.
■クリスタル成長: 4/6-インチ SiC 単結の PVT 方法
■エピタキシアル基板: 電源装置のためのSiCエピタキシアルウェーフの製造
■セラミック・シンタリング:高温構造部品 (ベアリング/ノズル)
ZMSHは SiC材料の専門知識と PVT結晶成長炉を備えた生産施設を備えており 高純度粉末から結晶成長機器まで 端から端までソリューションを提供しています粉末の純度と粒子の大きさの一貫性は業界をリードします.
1Q: シリコンカーバイド (SiC) 粉は何のために使われますか?
A: シリコンカービッド粉末は,極端な硬さと熱安定性のために半導体製造,磨削ツール,耐火材料に広く使用されています.
2Q: シリコンカービッド粉末は伝統的な材料に比べてどんな利点がありますか?
A: SiC粉末は,アルミ酸化物やシリコンのような従来の材料と比較して,優れた熱伝導性,化学的惰性,機械的強度を提供します.
タグ: #高純度, #カスタマイズ, #シリコンカーバイド, #SiC粉, #純度99.9999% (6N), #HPSIタイプ, #100μm粒子の大きさ, #SIC結晶成長
