両面研磨サファイア基板(DSP)は、高純度(>99.99%)の単結晶酸化アルミニウム(Al₂O₃)から製造されています。両面を原子レベルの滑らかさ(Ra < 0.3 nm)に精密研磨しており、優れた光透過性、機械的強度、熱安定性を提供します。光学窓、レーザーコンポーネント、半導体エピタキシー、科学研究用途に広く使用されています。
| パラメータ | 仕様 |
|---|---|
| 材料 | 高純度 >99.99%、単結晶 Al₂O₃ |
| 寸法 | 10 × 10 mm |
| 厚さ | 1 mm(その他の厚さもご要望に応じて対応可能) |
| 配向 | C面(0001)からM(1-100)0.2° ± 0.1° オフ |
| 格子定数 | a = 4.785 Å、c = 12.991 Å |
| 密度 | 3.98 g/cm³ |
| 熱膨張係数 | 6.66×10⁻⁶ /℃(‖C軸)、5×10⁻⁶ /℃(⊥C軸) |
| 絶縁破壊強度 | 4.8×10⁵ V/cm |
| 誘電率 | 11.5(‖C軸)、9.3(⊥C軸)@ 1 MHz |
| 誘電正接 | < 1×10⁻⁴ |
| 熱伝導率 | 20℃で40 W/(m・K) |
| 表面品質 | 両面研磨(DSP)、Ra < 0.3 nm(AFM)両面 |
| 平面度 | ≤ λ/10 @ 633 nm(標準) |
| 平行度 | < 10 arc sec |
優れた平面度と平行度を実現する両面光学研磨
UVからIR領域までの高い透過性
優れた硬度(モース硬度9)と耐スクラッチ性
優れた熱的および化学的安定性
優れた誘電特性と絶縁性能
カスタムサイズと配向もご要望に応じて対応可能
光学窓および保護カバー
赤外線およびUV分光法
レーザー光学系およびフォトニクスコンポーネント
GaN/AlNエピタキシャル成長基板
高出力およびRF電子デバイス
研究室および半導体試験