0.3mm DSPのサファイアのウエファーの基質は厚さをカスタマイズした

中国で多くの会社によってサファイア ガラスの成長のためのKyropoulosプロセス（KYプロセス）が現在電子工学および光学工業のためのサファイアを作り出すのに使用されている。

高純度、酸化アルミニウムは2100以上の摂氏温度のるつぼで溶ける。通常るつぼはタングステンかモリブデンから成っている。正確に方向づけられた種結晶は溶解したアルミナに浸る。種結晶はゆっくり上向きに引っ張られ、同時に回るかもしれない。正確に気温傾度を、引きの率および温度の減少制御することによって、の率溶解から大きく、single-crystal、大体円柱インゴットを作り出すことは可能である。

単結晶のサファイアの後でboulesは育つ、円柱棒に中心あく、棒は望ましい窓の厚さにスライスされ、望ましい表面の終わりに最終的に磨かれる。

サファイアWindowsはそれら（レーザー システムのような）、共通の化学酸およびアルカリへの高い熱伝導性極度な表面の硬度のために要求の適用にとって理想的に、高い比誘電率および抵抗をさせる単結晶のサファイアから製造される。サファイアはダイヤモンドの隣に第2最も堅い水晶であり、構造強度のために、サファイアの窓は改善された伝送の他の共通の誘電性の窓より大いに薄く作ることができる。化学的に、サファイアは単結晶の酸化アルミニウム（Al2O3）で、0.2 - 5.5µmからの伝送範囲に有用である。
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適用
サファイアの洗濯機、サファイアWindowsのサファイア軸受け、サファイア棒のサファイアの管、ルビー
サファイアのウエファー、ドームのサファイア、サファイアの絶縁材のフィルム、サファイアの球レンズ、サファイア/ルビー色の球

 

材料: 単結晶Al2O3 99.999%

オリエンテーション:M -軸線±0.1°への4°off C平面（0001）、

オリエンテーションの平たい箱の: 軸線±0.1°

 

Frontsideの表面の粗さ:Ra<0.3nm

裏側の表面の粗さ: 0.8~1.2um

（または磨かれる二重側面両側Ra<0.3nm）

TTV:<15um

弓:- 15~0um

 

ゆがみ:<15um

必要性によるレーザーの印シリーズNO

パッケージ:窒素が付いている真空密封の容器はクラス100の環境で埋め戻す