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高精度のダイヤモンドワイヤを切る逆向きの多線式サーブマシン

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レーザーホログラム偽造防止マーク装置 2500W出力
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レーザーホログラム偽造防止マーク装置 2500W出力レーザーホログラフィック偽造防止装置の概要レーザー誘導構造色リトグラフィ (LSCL) は,金属表面にマイクロナノ構造を作成するために,特殊なレーザー光学設計を使用する高精度製造技術です.この精密な物理格子で光学的な干渉と振動現象によっ... 続きを読む

2025-05-06 18:21:35

高精度レーザー掘削機高効率のマイクロホール処理波長1064nm
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製品説明高精度レーザー掘削機高効率のマイクロホール処理波長1064nm レーザー源:通常,ファイバーレーザー,CO2レーザー,紫外レーザーを用いたコアコンポーネントは,高エネルギー密度のレーザービームを生成します. · 光学システム:レーザービームを直径数ミクロンまでの極小な点に焦点化するための... 続きを読む

2025-04-29 10:21:39

熱圧圧アノード結合装置熱圧結合 Si Cu Al-Ge 材料 600°C 2-8インチ
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熱圧圧アノード結合装置熱圧結合 Si Cu Al-Ge 材料 600°C 2-8インチ熱圧縮アノード結合装置の概要熱圧縮アノード結合装置は,熱圧縮とアノード結合を組み合わせた二重プロセス結合技術を統合しています.2~8インチワッフルの金属化包装用に特別に設計された (e)温度・圧力・電圧パラ... 続きを読む

2025-04-23 15:21:41

ウェッファー結合装置室温ボンドイン水利性結合 Si-SiC Si-Si 結合 2 -12 インチ
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ウェッファー結合装置室温ボンドイン水利性結合 Si-SiC Si-Si 結合 2 -12 インチウェッファー結合システムの概要 Wafer Bonding Equipmentは,2~12インチワッフル仕様に対応するシリコンカービッド (SiC) 電力装置製造用に特別に設計された高級結合機器... 続きを読む

2025-04-18 11:43:18

オートマティックダブルホイブ半導体快熱焼却炉 6インチ 8インチ 12インチウエファー熱処理装置と互換性 200-1300°C
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製品説明オートマティックダブルホアシー半導体急速焼却炉 6インチ 8インチ 12インチウェファーの熱処理装置と互換性 200-1300°C オートマティック・ダブル・チャンバー・ラップ・アニール・オーブンは,半導体材料のために設計された高精度熱処理装置である.効率的で均等な急速な加熱・冷却プロ... 続きを読む

2025-04-14 17:42:08

ガリウムアルセニード光ファイバー温度センサー小型の探査機温度測定精度0.5mm ±0.1°C
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抽象ガリウムアルセニード光ファイバー温度センサー小型の探査機温度測定精度0.5mm ±0.1°C ガリウムアルセニード (GaAs) 光ファイバー温度センサーは,半導体光学特性に基づく非接触温度測定システムの一種である.高精度温度測定を実現する GaAs材料の光吸収または熒光特性が温度によっ... 続きを読む

2025-04-14 17:40:13

マイクロジェットレーザー技術機器ワイファースライス金属シリコンカービッド材料
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m の抽象イクロジェットレーザー技術機器マイクロジェットレーザー技術機器ワイファースライス金属シリコンカービッド材料マイクロジェットレーザーシステムは,高エネルギーパルスレーザーをマイクロスケール液体ジェット (通常は離子化水または惰性液体) に結合することによって,半導体材料の超精密加工を... 続きを読む

2025-04-14 17:40:13

半導体ウエファー加工のための微流体レーザー装置
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m の抽象イクロジェットレーザー技術機器半導体ウエファー加工のための微流体レーザー装置マイクロジェットレーザー技術は複合材料の加工技術で複合材料の加工技術として広く使用されていますレーザーを機械加工部品の表面に正確に導いて,従来の光ファイバーに似た方法で,全体的な内部反射を通す.水流は切断... 続きを読む

2025-04-14 17:40:13

バイオニック・アンスリップ・パッド高摩擦低粘着性ウエファーにはバイオニック・摩擦・パッドの吸入カップがある
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バイオニック防滑パッド抽象バイオニック・アンスリップ・パッド高摩擦低粘着性ウエファーにはバイオニック・摩擦・パッドの吸入カップがあるバイオニック防滑パッドは高性能な防滑ツールで生物学的構造を模倣するものです (ゲッコの足やタコの吸管など)粘着のない強い粘着性 (乾燥環境と湿った環境の両方... 続きを読む

2025-04-14 17:40:13

単結晶シリコン双ステーション方形機械 6/8/12 インチ掘り ≤0.5mm 高精度 ±0.05mm
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抽象単結晶シリコン双ステーション方形機械 6/8/12 インチ掘り ≤0.5mm 高精度 ±0.05mm 半導体材料の加工分野では monocrystalline silicon two-root vertical open-mechanism island building is a ... 続きを読む

2025-04-14 17:40:13

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